第244章 流片数据出炉，光刻机主体成功
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  第244章 流片数据出炉，光刻机主体成功
  宽敞明亮的机房內，首台逐光极紫外光刻机，被放置在中心位置，是全场毫无疑问的焦点。前方墙上的大屏幕处，最上面掛著个红色横幅。
  写有一行標语。
  “预祝全系统首次链路功能验证流片圆满成功”
  而现场除总设计徐铭，贺鹏涛与丁顺安两位院士，和微电子装备项目科研人员外，还包括华天科技公司，科技部领导以及多位院士专家。今天全部聚集在这里，只为共同见证国家高端晶片製造的崛起。
  其中很多人，都是项目某环节参与者。
  最终的结果如何，对他们来说，称得上是与有荣焉。
  心中都憋著一口气。
  但像科学院院长余高远，则完全把自己，放在观眾的席位上，基本全程保持沉默，很少参与发言。
  把本次验证的主导权，悉数交给总设计师徐铭。
  仅在心中希冀验证圆满成功。
  当视线重新回到徐铭身上，他已经伸手接过，贺院递过来的逐光”最新检测数据，隨即垂下目光神情认真的仔细查看。
  从海外新思公司，与阿斯麦半导体设备，共同发出公告，宣布將在明年正式推出，全新的极紫外光刻机和配套eda算法工具，到现在已过去三个多月时间。
  然论他们如何都不会想到，在这短短三个多月內，首台逐光极紫外光刻机，已完成组装。
  將採用全新技术的核心光源系统，和工作件物镜系统等零部件整合。