第82章 双管齐下，继续推进硅电晶体研製工作！
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  当然。
  也不是所有的研究都一帆风顺。
  王寿吾道：
  “光刻和扩散，是我们现在面临的两大难题。”
  “手工光刻误差太大。”
  “而开关扩散的掺杂，不仅存在波动，同一电晶体上的閾值电压差异——””
  他说完后。
  眾人陷入沉思。
  江阳也没有著急开口，而是等待眾人討论。
  毕竟他不能什么都解决。
  没过多久。
  很快便有人开口，道：
  “我认为，可以尝试从光刻胶上取得突破。”
  听到他的话。
  所有人都下意识地看向江阳。